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IC LSI 電極 半導体検出器システム マグネトロン スパッタリング 成膜
IC LSI 電極 半導体検出器システム マグネトロン スパッタリング 成膜
仕様
モデル番号 :
MSC-SEM-X—X
原産地 :
中国、成都
最小注文数量 :
1セット
支払い条件 :
T/T
供給能力 :
ケースバイケース
納期 :
ケースバイケース
パッケージの詳細 :
木製ケース
重さ :
カスタマイズ可能
サイズ :
カスタマイズ可能
カスタマイズ可能 :
利用可能
保証期間 :
ケースバイケース1年
発送条件 :
海/空/マルチモーダル輸送
記述

半導体産業におけるマグネトロン スパッタリング成膜

アプリケーション

アプリケーション 特定の目的 材料の種類
半導体 IC、LSIの電極、配線フィルム AI、Al-Si、Al-Si-Cu、Cu、Au、Pt、Pd、Ag
VLSIメモリ電極 Mo、W、Ti
拡散バリアフィルム MoSix、Wsix、TaSix、、TiSx、W、Mo、W-Ti
粘着フィルム PZT(Pb-ZrO2-Ti) 、Ti、W

動作原理

マグネトロン スパッタリングの原理: 電界の作用下で、電子がプロセス中にアルゴン原子と衝突します。

高速で基板に飛来し、アルゴンイオンと電子をたっぷりとイオン化し、電子が基板に飛来します。

基板。アルゴン イオンは電界の作用下で高速でターゲットに衝突し、ターゲットを大量にスパッタリングします。

原子、中性のターゲット原子 (または分子) が基板上に堆積して膜を形成します。

特徴

モデル MSC-SEM-X—X
コーティングタイプ 金属膜、金属酸化物、AlNなどの各種誘電体膜
塗装温度範囲 常温～500℃
コーティング真空チャンバーサイズ 700mm*750mm*700mm (カスタマイズ可能)
バックグラウンド真空 < 5×10-7mbar
コーティングの厚さ ≧10nm
厚み制御精度 ≦±3%
最大コーティングサイズ ≥ 100mm (カスタマイズ可能)
膜厚均一性 ≦±0.5%
基板キャリア 遊星回転機構付
対象物質 4×4インチ（4インチ以下対応）
電源 DC、パルス、RF、IF、バイアスなどの電源はオプションです
プロセスガス Ar、N2、O2
注: 利用できるカスタマイズされた生産。

コーティングサンプル

IC LSI 電極 半導体検出器システム マグネトロン スパッタリング 成膜

プロセスステップ

→コーティング用の基板を真空チャンバーに入れます。

→おおまかに真空引き。

→分子ポンプをオンにし、最高速度で真空にし、公転と自転をオンにします。

→ 温度が目標に達するまで真空チャンバーを加熱します。

→一定の温度制御を実装します。

→きれいな要素;

→回転して原点に戻る。

→ プロセス要件に従ってフィルムをコーティングします。

→ 温度を下げ、コーティング後にポンプ アセンブリを停止します。

→自動運転が終了したら作業を停止します。

私たちの利点

私たちはメーカーです。

成熟したプロセス。

24営業時間以内に返信してください。

当社の ISO 認証

IC LSI 電極 半導体検出器システム マグネトロン スパッタリング 成膜

当社の特許の一部

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研究開発の賞と資格の一部

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製品詳細
モデル番号 :
MSC-SEM-X—X
原産地 :
中国、成都
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ケースバイケース
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4 年数
sichuan, chengdu
ありがとうございました 2018
事業形態 :
Manufacturer, Exporter, Seller
主な製品 :
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年間総額 :
＄10,000,000-＄15,000,000
従業員数 :
120~200
認証レベル :
Active Member
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