カスタム形クォーツ開口板は,CNC加工またはレーザー切削によって高純度溶融シリカ (SiO2≥99.99%) から製造された高精度光学部品である.複雑なアパルチャー幾何学 (e)(例えば,多角形,星形,微流体チャネル) は,クォーツの優れた特性 (伝達性>93%@550nm,温度耐性1100°C) とカスタマイズされた構造的適応性を組み合わせます.透孔設計により光学経路の導航が可能になります半導体リトグラフィ,バイオチップ,レーザーシステム,分析機器に不可欠です.
オプティカルコンポーネントの プロメーカーとしてZMSHクォーツアペルチャープレートの端から端までカスタマイズサービスを提供する.材料の選択,構造設計,精密加工 (±0.02mmの許容度),機能処理 (例えば,コーティング専門的なR&Dおよび産業要件を満たすためにCAD図面またはサンプル複製を受け付けます.
パラメータ | 仕様 |
材料 | 高純度溶解シリカ (SiO2≥99.99%) |
穴直径範囲 | 0.1mm~50mm (カスタマイズ可能) |
穴の位置精度 | ±0.01mm (レーザー), ±0.02mm (CNC) |
厚さ範囲 | 0.2mm~20mm |
表面の荒さ | Ra≤0.5nm (光学用), Ra≤1.2nm (工業用) |
伝達力 @550nm | >93% |
熱膨張係数 | 0.55×10−6/°C |
耐熱性 | 長期:800°C 短期:1200°C |
圧力耐性 | >20MPa (厚さ1mm) |
バキューム互換性 | <10−7Pa |
注: オーダーメイドの穴模様 (例えば,六角形,微流体型) と表面処理が可能です.
オーダーメイドのクォーツ・アパルチャープレートの主な利点は以下の通りです.
1複雑な構造の適応性: 任意の穴形 (0.1mm×50mm直径) を容認し,辺の切片は0.05mm以下である.
2極端な環境の安定性: 長時間800°Cでの動作,熱ショック (ΔT≥1000°C),酸/アルカリ腐食 (HFを除く) に耐える.
3高い透明性 低分散性: 紫外線から赤外線 (170nm~2500nm) への伝播率は> 90%で,霧 < 1%
4精密加工: 穴位置精度 ±0.01mm,表面粗さ Ra≤0.5nm (光学グレードのポーリング)
5多機能統合: アペルチャー壁コーティング (AR/HR) または化学的変更 (水素抵抗性/水素性) をサポートします.
これらのプレートは以下の点において重要です
1半導体製造: ナノメートルの尺度安定性を必要とするリトグラフィーのマスクアライナメントアペルチャー
2微流体学生物チップのマイクロチャネル構造は 化学的惰性と生物互換性を要求します
3レーザー光学: 高功率レーザー用のビーム形アペルチャー (LIDT>15J/cm2@1064nm).
4分析装置:超高真空相容性 (<10−7Pa) を有する質量スペクトロメーター用イオンガイドプレート.
5航空宇宙: 衛星センサー用の換気プレート, -200°Cから1200°Cまでの熱循環耐久性
クォーツプリズムのカスタマイズ
ZMSHは,光学グレードの溶融シリカ (SiO2≥99.99%) から精密クォーツプリズムを製造し,直角,ビーム分割,UVプリズムのためのCADベースのカスタマイズをサポートする.サービスにはマイクロレベル加工 (±3arcsec) が含まれる.レーザーとスペクトロメーターに最適である.プロトタイプ作成が可能で,大量注文の配達と技術サポートが可能です.
1Q: クォーツ・アペルチャー・プレートは何のために使われますか?
A: クォーツアペルチャープレートは,半導体リトグラフィ,マイクロ流体,熱耐性があるため,高功率レーザーシステムオーダーメイドの穴のパターンです
2Q: なぜ金属やポリマーアパルチャープレートよりも 石英を選んだのか?
A: クォーツは,高温安定性 (1100°C まで),UV透明性,化学抵抗性を有し,厳しい環境で金属 (熱膨張) とポリマー (耐久性) を上回っています.
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