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Apr 22, 2025
5 意見
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製品説明: 2inch C表面はSIタイプの支えがないGaNの単結晶の基質の抵抗を> 106 Ω Fe添加した·cm RF装置 semi-insulating SiCの(001の)基質のFe添加されたGaNのエピタキシアル層の成長の特徴は高い絶縁破壊電圧装置塗布のためのmetalorganic化学
もっと学ぶ
2inch GaNのエピタキシアル ウエファーCの表面FeはSIのタイプ自由な地位を添加した
JDCD01-001-021
蘇州中国
今連絡してください
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
Active Member
4
年数
00:34
12.5mm 2inch支えがないN GaN EpiのウエファーSiは添加した
00:19
4 インチ N 型 UID ドープ GaN オン サファイア ウェーハ SSP 抵抗率>0.5 Ω cm LED、レーザー、PIN エピタキシャル ウェーハ
00:19
2 インチ C 面 Fe ドープ SI タイプ自立型 GaN 単結晶基板 抵抗率 > 10⁶ Ω·cm RF デバイス
00:17
2インチ自立型SI-GaN基板
00:06
M軸線0.35 ±0.15°の方の角度を離れた10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質Cの平面(0001)
00:52
シリコンのGaN紫外線レーザー 2インチ シリコンのGaNHEMT Epiウエファー UV LD Epiウエファー
バッチを交換する
4インチFeドーピングフリースタンドガン基板ガリウムナイトリド
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625um から 675um 4 インチ ブルー LED ガリウムナイトリッド GaN エピタキシアル・ウェーファー・オン・ザファイア SSP フラット・ザファ
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