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May 14, 2025
9 意見
連絡するサプライヤー
製品説明: 2inch C面FeドープSI型自立GaN単結晶基板 抵抗率>106Ω・cm RFデバイス 概要 窒化ガリウム (GaN) エピタキシャルウェーハ (エピウェーハ)。シリコン基板、サファイア基板、炭化ケイ素 (SiC) 基板などのさまざまな基板上の GaN 高電子移動度トランジスタ
もっと学ぶ
2 インチ C 面 Fe ドープ SI タイプ自立型 GaN 単結晶基板 抵抗率 > 10⁶ Ω·cm RF デバイス
JDCD01-001-021
蘇州中国
今連絡してください
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
Active Member
4
年数
00:34
12.5mm 2inch支えがないN GaN EpiのウエファーSiは添加した
00:19
4 インチ N 型 UID ドープ GaN オン サファイア ウェーハ SSP 抵抗率>0.5 Ω cm LED、レーザー、PIN エピタキシャル ウェーハ
00:19
4インチによってMg添加されるGaN/サファイアの基質SSP Resistivity~10Ω cm LEDレーザーPINのエピタキシアル ウエファー
00:17
2インチ自立型SI-GaN基板
00:06
M軸線0.35 ±0.15°の方の角度を離れた10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質Cの平面(0001)
00:52
シリコンのGaN紫外線レーザー 2インチ シリコンのGaNHEMT Epiウエファー UV LD Epiウエファー
バッチを交換する
4インチFeドーピングフリースタンドガン基板ガリウムナイトリド
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GaN 2 インチガリウムナイトリド シングルクリスタル基板
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625um から 675um 4 インチ ブルー LED ガリウムナイトリッド GaN エピタキシアル・ウェーファー・オン・ザファイア SSP フラット・ザファ
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