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ナノ構造パターン産業のためのAL2O3原子層堆積装置
ナノ構造パターン産業のためのAL2O3原子層堆積装置
仕様
モデル番号 :
ALD-NP-X—X
原産地 :
中国、成都
最小注文数量 :
1セット
支払い条件 :
T/T
供給能力 :
ケースバイケース
納期 :
ケースバイケース
パッケージの詳細 :
木製ケース
重さ :
カスタマイズ可能
サイズ :
カスタマイズ可能
保証期間 :
ケースバイケース1年
カスタマイズ可能 :
利用可能
発送条件 :
海/空/マルチモーダル輸送
記述

ナノ構造およびパターン産業における原子層堆積


アプリケーション

アプリケーション 特定の目的
ナノ構造とパターン

テンプレート支援ナノ構造
触媒支援ナノ構造
ナノパターン作製のための位置選択的ALD


動作原理
原子層堆積法とは、気相の前駆体を交互にパルス状にして成膜する方法です。
反応チャンバーに入れ、堆積した基板上で気固相化学吸着反応を生成します
水面。前駆体のとき堆積した基板の表面に到達すると、化学的に吸着されます
表面反応を生成します。


特徴

モデル ALD-NP-X—X
塗膜系 アル2〇3、TiO2、ZnOなど
塗装温度範囲 常温～500℃（カスタマイズ可能）
コーティング真空チャンバーサイズ

内径：1200mm、高さ：500mm（特注）
真空チャンバー構造 顧客の要求に従って
バックグラウンド真空 <5×10-7mbar
コーティングの厚さ ≥0.15nm
厚み制御精度 ±0.1nm
コーティングサイズ 200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200mm²など
膜厚均一性 ≤±0.5%
前駆体およびキャリアガス

トリメチルアルミニウム、四塩化チタン、ジエチル亜鉛、純水、
窒素など
注: 利用できるカスタマイズされた生産。


コーティングサンプル

ナノ構造パターン産業のためのAL2O3原子層堆積装置ナノ構造パターン産業のためのAL2O3原子層堆積装置

プロセスステップ
→コーティング用の基板を真空チャンバーに入れます。
→高温と低温で真空チャンバーを真空にし、基板を同期して回転させます。
→ コーティングの開始: 基板は、同時反応なしで順番に前駆体と接触します。
→各反応後に高純度窒素ガスでパージします。
→ 膜厚が基準に達し、パージと冷却の操作が完了したら、基板の回転を停止します。
真空破壊条件を満たしてから基板を取り出します。

私たちの利点
私たちはメーカーです。
成熟したプロセス。
24営業時間以内に返信してください。


当社の ISO 認証
ナノ構造パターン産業のためのAL2O3原子層堆積装置

当社の特許の一部
ナノ構造パターン産業のためのAL2O3原子層堆積装置ナノ構造パターン産業のためのAL2O3原子層堆積装置

研究開発の賞と資格の一部

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製品詳細
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4 年数
sichuan, chengdu
ありがとうございました 2018
事業形態 :
Manufacturer, Exporter, Seller
主な製品 :
, ,
年間総額 :
＄10,000,000-＄15,000,000
従業員数 :
120~200
認証レベル :
Active Member
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