仕様
モデル番号 :
ALD-SEN-X—X
原産地 :
中国、成都
最小注文数量 :
1セット
支払い条件 :
T/T
供給能力 :
ケースバイケース
納期 :
ケースバイケース
パッケージの詳細 :
木製ケース
重さ :
カスタマイズ可能
サイズ :
カスタマイズ可能
保証期間 :
1年またはケースバイケース
カスタマイズ可能 :
利用可能
発送条件 :
海/空/マルチモーダル輸送
記述

センサー産業における原子層堆積


アプリケーション

アプリケーション 特定の目的

センサー

ガスセンサー

湿度センサー
バイオセンサー


動作原理
基本的な原子層堆積サイクルは、次の 4 つのステップで構成されます。
1. 最初の前駆体が基板表面に誘導され、化学吸着プロセスが自動的に開始されます。

終了する表面が飽和しているとき;
2. 不活性ガス Ar または N2 および副生成物、過剰な第 1 前駆体を洗い流します。
3. 2 番目の前駆体が注入され、基板表面に化学吸着された 1 番目の前駆体と反応して、

形成する希望のフィルム。反応プロセスは、吸着した最初の前駆体の反応まで終了します。
基板表面完成されました。2 番目の前駆体が注入され、余分な前駆体が洗い流されます
あちらへ;
4. Ar や N2 などの不活性ガスおよび副生成物。

この反応過程をサイクルと呼び、第一前駆体の注入とフラッシング、第一前駆体の注入とフラッシングを行う。
2番目前駆。1 サイクルに必要な時間は、第 1 前駆体と第 2 前駆体の注入時間の合計です。
プラス2つフラッシング回数。したがって、合計反応時間は、サイクル数にサイクル時間を掛けたものです。

特徴

モデル ALD-SEN-X—X
塗膜系 アル23、TiO2、ZnOなど
塗装温度範囲 常温~500℃(カスタマイズ可能)
コーティング真空チャンバーサイズ

内径:1200mm、高さ:500mm(特注)

真空チャンバー構造 顧客の要求に従って
バックグラウンド真空 <5×10-7mbar
コーティングの厚さ ≥0.15nm
厚み制御精度 ±0.1nm
コーティングサイズ 200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200mm²など
膜厚均一性 ≤±0.5%
前駆体およびキャリアガス

トリメチルアルミニウム、四塩化チタン、ジエチル亜鉛、純水、
窒素など

注: 利用できるカスタマイズされた生産。


コーティングサンプル

センサーの企業のためのバイオセンサーの原子層沈着 ALD 機械センサーの企業のためのバイオセンサーの原子層沈着 ALD 機械

プロセスステップ
→コーティング用の基板を真空チャンバーに入れます。
→高温と低温で真空チャンバーを真空にし、基板を同期して回転させます。
→ コーティングの開始: 基板は、同時反応なしで順番に前駆体と接触します。
→各反応後に高純度窒素ガスでパージします。
→ 膜厚が基準に達したら、基板の回転を停止し、パージと冷却の操作を行います i
s
真空破壊条件を満たしてから基板を取り出します。

私たちの利点
私たちはメーカーです。
成熟したプロセス。
24営業時間以内に返信してください。

当社の ISO 認証
センサーの企業のためのバイオセンサーの原子層沈着 ALD 機械

当社の特許の一部
センサーの企業のためのバイオセンサーの原子層沈着 ALD 機械センサーの企業のためのバイオセンサーの原子層沈着 ALD 機械

研究開発の賞と資格の一部

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4 年数
sichuan, chengdu
ありがとうございました 2018
事業形態 :
Manufacturer, Exporter, Seller
主な製品 :
, ,
年間総額 :
$10,000,000-$15,000,000
従業員数 :
120~200
認証レベル :
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