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光学産業のフォトニック結晶原子層堆積装置
光学産業のフォトニック結晶原子層堆積装置
仕様
モデル番号 :
ALD-O-X—X
原産地 :
中国、成都
最小注文数量 :
1セット
支払い条件 :
T/T
供給能力 :
ケースバイケース
納期 :
ケースバイケース
パッケージの詳細 :
木製ケース
重さ :
カスタマイズ可能
記述

光学産業における原子層堆積


アプリケーション

アプリケーション 特定の目的

光学

光学部品

フォトニック結晶
エレクトロルミネッセンスディスプレイ
表面増強ラマン分光法
透明導電性酸化物

発光層、パッシベーション層、フィルター保護層、反射防止コーティング、紫外線防止
コーティング


動作原理
原子層成長 (ALD) は、元は原子層エピタキシーと呼ばれ、原子層化学気相とも呼ばれていました。
沈着(ALCVD) は、化学蒸着 (CVD) の特殊な形態です。この技術は物質を堆積させることができます
表面上層ごとに単一の原子膜の形で基板の、一般的な化学薬品に似ています
堆積ですが、原子層堆積のプロセス、原子膜の新しい層の化学反応は直接
に関連するこの方法では、各反応で原子の層が 1 つだけ堆積するようにします。

特徴

モデル ALD-OX-X
塗膜系 アル2〇3、TiO2、ZnOなど
塗装温度範囲 常温～500℃（カスタマイズ可能）
コーティング真空チャンバーサイズ

内径：1200mm、高さ：500mm（特注）

真空チャンバー構造 顧客の要求に従って
バックグラウンド真空 <5×10-7mbar
コーティングの厚さ ≥0.15nm
厚み制御精度 ±0.1nm
コーティングサイズ 200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200mm²など
膜厚均一性 ≤±0.5%
前駆体およびキャリアガス

トリメチルアルミニウム、四塩化チタン、ジエチル亜鉛、純水、
窒素など

注: 利用できるカスタマイズされた生産。


コーティングサンプル
光学産業のフォトニック結晶原子層堆積装置光学産業のフォトニック結晶原子層堆積装置
プロセスステップ
→コーティング用の基板を真空チャンバーに入れます。
→高温と低温で真空チャンバーを真空にし、基板を同期して回転させます。
→ コーティングの開始: 基板は、同時反応なしで順番に前駆体と接触します。
→各反応後に高純度窒素ガスでパージします。
→ 膜厚が基準に達したら、基板の回転を停止し、パージと冷却の操作を行います。
真空破壊条件を満たしてから基板を取り出します。

私たちの利点
私たちはメーカーです。
成熟したプロセス。
24営業時間以内に返信してください。

当社の ISO 認証
光学産業のフォトニック結晶原子層堆積装置

当社の特許の一部
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研究開発の賞と資格の一部

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製品詳細
モデル番号 :
ALD-O-X—X
原産地 :
中国、成都
最小注文数量 :
1セット
支払い条件 :
T/T
供給能力 :
ケースバイケース
納期 :
ケースバイケース
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4 年数
sichuan, chengdu
ありがとうございました 2018
事業形態 :
Manufacturer, Exporter, Seller
主な製品 :
, ,
年間総額 :
＄10,000,000-＄15,000,000
従業員数 :
120~200
認証レベル :
Active Member
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