3つのセットのプロセスガスが付いている150mmの急速な熱焼きなましシステム中国からのビデオ

Jun 22, 2025

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製品説明: 3つのセットのプロセスガスが付いているRTP-150RLの急速な熱焼きなましシステム RTP-150RL:デスクトップの手動急速な焼きなましはにシステムの保護大気、赤外線可視ライトの熱する単一部分のウエファーまたはサンプルと、2-6インチのウエファーのための短いプロセス時間、適した高温制御もっと学ぶ

3つのセットのプロセスガスが付いている150mmの急速な熱焼きなましシステム

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JDEQ-0002

蘇州中国

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RTP-SA-8 焼却システム

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シリコンのGaN紫外線レーザー 2インチシリコンのGaNHEMT Epiウエファー UV LD Epiウエファー

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12.5mm 2inch支えがないN GaN EpiのウエファーSiは添加した

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4 インチ N 型 UID ドープ GaN オンサファイアウェーハ SSP 抵抗率＞0.5 Ω cm LED、レーザー、PIN エピタキシャルウェーハ

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2 インチ C 面 Fe ドープ SI タイプ自立型 GaN 単結晶基板抵抗率 > 10⁶ Ω·cm RF デバイス

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2インチ自立型SI-GaN基板

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