クォーツガラスボートは,高温溶融過程で高純度シリコン二酸化物 (SiO2) から製造された特殊なボートです.化学的安定性半導体製造,研究開発,医療機器,高温産業用には 不可欠な部品となります精密構造と材料性能限界を均衡させるように設計されたこのボートは,強い酸や塩基や電磁気干渉に抵抗しながら,極端な温度 (-270°Cから1450°C) で安定して動作します.高温プロセスキャリアに広く使用されています3世代半導体と新しいエネルギー産業の台頭により,チップ製造におけるクォーツガラスボートの需要は増加し,レーザーパッケージング高温反応システムも成長し,先進的な研究室や生産ラインにおける重要なインフラとしての役割を強化しています
化学組成: | SiO2 99.9%; 99.98% |
密度: | 2.2 (g/cm3) |
モース硬さ | 6.6 |
溶融点: | 1732 °C |
動作温度: | 1100 °C |
最低短期温度: | 1450 °C |
アシド耐性 | 30×セラミック / 150×ステンレス鋼 |
可視光伝達力: | >93% |
紫外線伝播性: | 80% |
電気抵抗性: | 10普通のガラス |
焼却点: | 1215 °C |
柔らか点: | 1730 °C |
タイプ | 特徴 | 申請 |
透明なクォーツボート | JGS1級 (UV級),OH含有量 < 5ppm,伝播度 > 90% @185nm | リトグラフィ,エピタキシ (光学感受性プロセス) |
不透明なクォーツボート | 乳状の外観,孔隙度 <0.3%, 50% 熱衝撃耐性向上 | 拡散,焼却 (高温処理) |
合成クォーツボート | CVD処理,金属不純 <0.1ppm,プラズマ腐食耐性優れている | エッチング,イオン植入 (乾燥処理) |
ドーピングされたクォーツ船 | Ti/Ceドーピング,結晶化耐性 1300°Cまで | 単結晶シリコン成長,MOCVD (超高温環境) |
産業 | 典型的な使用事例 | 主要 な 要求 |
半導体 | ワイファー拡散,LPCVDプロセスキャリア | 高温変形 <0.1mm/300mm |
ソーラー | PERC 細胞 P 拡散,TOPCon トンネル オキシード層 | POCl3耐腐食性 ≥200サイクル |
LED エピタキシ | MOCVD反応室のウエファーホルダー | 表面荒さ ≤0.05μm |
精密アニール | 磁気材料,特殊合金熱処理 | 金属蒸気侵食耐性 |
研究機器 | シンクロトロンビームラインサンプルホルダー,MBE基板 | 超高真空互換性 (<10−8Pa) |
1熱性能が高い
長期使用温度:1100°C (短期使用は1450°Cまで)
· 1000回の熱サイクル (−6°C~1200°C) クラッキングなし
2化学的安定性
HF (98% H2SO4,37% HClなど) を除くすべての強い酸に耐性があります.
· 従来のセラミクよりも3倍高いアルカリ耐性
3物理的特性
熱伝導性: 1.4 W/m·K (熱蓄積を防止する)
介電強度: 40kV/cm (20°C)
4清潔度管理
· 10級クリーンルームで生産
· 表面粒子の数 ≤5個/cm2 (≥0.3μm)
ZMSHは半導体,光伏,光電子用のカスタマイズされたクォーツガラスボートに特化した. クォーツ研究所とCNAS認定のラボを備えており,レーザー3D検査システムを利用して ±0.01mmの加工精度と原子レベルの表面処理を達成しています. 構造設計,熱シミュレーションから プロセス検証まで超高温 (1600°C) と極端な熱ショック (ΔT≥1200°C) の応用に専門性がある. 10級クリーンルームと スマート生産ラインを通じて 研究開発プロトタイプに対応します
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1Q: クォーツボートとは?
A: クォーツボートは,半導体および実験室で使用される高純度溶融シリカ容器で,ホイールとサンプルを高温処理します.
2Q: 石英 は なぜ グラス に 用い られ ます か.
A: 石英 は 常規 の ガラス と 比べ て 熱 安定 性 (1100°C まで),光学 透明性 (UV から IR 伝達) と 化学 耐性 が 優れている の で,ガラス に 用い られ ます.
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