中国 カスタマイズされた金属化合物 セラミックス 不有機化合物 ナノ材料 真空 ホットプレス シンタリングオーブン
設備は主に大学,科学研究ユニット,金属化合物,セラミック,無機化合物,ナノ材料圧熱とシンタリング加工のための真空または保護大気の条件下で,高精度シリコンナイトリドセラミック ローヤリングそしてシリコンナイトリドセラミック基板
モデル
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作業エリアの寸法 D*H mm
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最大温度°C
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冷却制限真空Pa
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圧力比 Pa/h
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定位電源 Kw
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圧力 T
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移動量 mm
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充電圧 Mpa
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JT-RYL-50
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フ150*200
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2400
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5*10-3
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3
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50
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20〜200
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0〜100
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0.05
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JT-RYL-75
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フ200*300
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2400
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5*10-3
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5
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75
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20〜200
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0〜150
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0.05
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JT-RYL-100
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フ300*400
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2400
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5*10-3
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6
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100
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20〜200
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0〜250
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0.05
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JT-RYL-200
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フ400*500
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2400
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5*10-3
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6
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200
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20〜200
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0〜300
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0.05
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JT-RYL-300
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フ500*600
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2400
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5*10-3
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6.5
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300
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20〜200
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0-350
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0.05
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JT-RYL-400
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フ600*700
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2400
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5*10-3
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6.5
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400
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20〜200
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0-450
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0.05
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