真空炉は真空焼結に使用できます。つまり、真空状態で金属粉末製品を加熱し、隣接する金属粉末粒子を付着と拡散によって焼結させて部品にします。
真空炉は真空焼結炉であり、設備の用途によって区別され、おそらく次のタイプが含まれます:真空ホットプレス炉、真空焼結炉、炭化ケイ素真空炉、炭化チタン真空炉、炭化クロム真空炉、真空脱脂焼結炉など。
加熱方法によると、真空炉は真空抵抗炉、真空誘導炉、真空アーク炉、プラズマ炉に分けられます。
真空炉の構造は、一般的に、主機、炉室、電気加熱装置、密閉された炉殻、真空システム(真空ポンプ、真空測定装置、真空バルブなどのコンポーネントを慎重に組み立てたもの)、電源システム、温度制御システム、炉外の搬送車で構成されています。
用途:
セラミック焼結、真空溶解、電気真空部品の脱ガス、焼鈍、金属部品のろう付け、セラミック金属シール、その他の合金材料の真空焼結に使用されます。
特徴:
炉内の加熱システムは、抵抗線(タングステン線など)または電磁誘導加熱によって直接加熱できます。
温度は約2600℃に達することができ、さまざまな材料の焼結を完全に満たすことができます。
デジタル表示インテリジェント温度制御システムを使用し、自動かつ高精度に温度測定と温度制御プロセスを完了します。システムは、与えられた温度曲線に従って加熱でき、合計20個の400種類の異なるプロセス加熱曲線を保存できます。
内部循環純水冷却システム、デジタル流量監視システム。
高性能の中間周波数コンタクタが炉体の自動変換に使用されます。
包括的なPLC水、電気、ガス自動制御および保護システム。
最大使用温度 | 2600℃ | |
高温ゾーンの容量 | 12L、45L、128L、192L、250L、375L、540L、648L | 980L、1600L、2430L、3500L、10000L |
炉内の作業雰囲気 | 真空 | |
温度均一性 | ≤±10℃ | ≤±20℃ |
温度測定 | 赤外線光学温度測定 | |
温度測定範囲 | 800~2600℃または0~2600℃ | |
温度測定制御 | プログラム制御と手動制御 | |
温度測定精度 | 0.2~0.75% | |
温度制御精度 | ±1℃ | ±3℃ |
限界加熱速度 | 30℃/分 | 20℃/分 |
圧力上昇率 | 0.6Pa/h | |
極限真空 | 4X10-3Pa | |
チャージバッチ | 60~1200KG | |
加熱電力 | 30~200KW |