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Jun 09, 2025
17 意見
連絡するサプライヤー
製品説明: MEMS プロセス用 4 インチ SOI エピタキシャルウェーハ 概要 シリコン結晶は金属のように見えますが、完全な金属ではありません。原子間を容易に移動する「自由電子」により、金属は電気の良導体であり、電気は電子の動きです。一方、純粋なシリコン結晶はほぼ絶縁体です。それを通過
もっと学ぶ
JDCD07-001-001 MEMS プロセス用 4 インチ SOI エピタキシャルウェーハ
JDCD07-001-001
蘇州中国
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Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
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4
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JDCD07-001-002 5 インチ SOI エピタキシアル・ウェーファー MEMS 処理用
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RTP-SA-8 焼却システム
00:52
シリコンのGaN紫外線レーザー 2インチ シリコンのGaNHEMT Epiウエファー UV LD Epiウエファー
00:19
4 インチ N 型 UID ドープ GaN オン サファイア ウェーハ SSP 抵抗率>0.5 Ω cm LED、レーザー、PIN エピタキシャル ウェーハ
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LEDレーザーPINデバイスのための2 ′′6インチN型ガナオンサファイアエピタキシアルウェーファー
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GaN 2 インチガリウムナイトリド シングルクリスタル基板
バッチを交換する
JDCD07-001-004 7 インチ SOI エピタキシアル・ウェーファー MEMS 処理用
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JDCD07-001-002 5 インチ SOI エピタキシアル・ウェーファー MEMS 処理用
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E/終わる例えば/Gの表面分離した装置Si基質P/E P/P
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