Jul 14, 2025
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製品説明: Sapphi光通信システム用シリコンウェーハ上の厚さの高い熱酸化物 (SiO2)   一般にシリコンウェーハの酸化層厚さは主に3μm以下に集中しており、高品質の酸化層厚（3μm以上）のシリコンウェーハを安定的に生産できる国と地域は依然として米国、日本、韓国、台湾が独占している。 、 中もっと学ぶ
光通信システムのためのシリコンウエファー上の厚さの大きなSiO2熱酸化物

光通信システムのためのシリコンウエファー上の厚さの大きなSiO2熱酸化物
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