NI PVDの放出させるコーティング植物、システム、Snの/Agの真空のめっき装置、銅めっきの植物を金属で処理するCrの真空
装置の構造:
RTAC1215-SP機械はoctcalタイプであり、8つのアークの陰極を取付けた真空ポンプ、真空槽、1つの線形イオン源、2組のDCの放出させる陰極および1組のMFの放出させる陰極から成っている。 イオン源、放出させる陰極は実際にコーティング プロセスの要求にflexiblely基づいて交換することができるフランジをstandized取付けた。
適用:
1. 陶磁器の密封の部品のためのDPCの企業、DPCプロセス、銅PVDの放出させるシステム、たる製造人のめっきのLEDの陶磁器の破片、Al2 O3のAlNの陶磁器のサーキット ボード、LEDの半導体のAl2O3版
2.銀、NI、Chrome、金、アルミニウム、Sn等の金属のフィルムおよび錫、TiAlN、TiC、TiO、CrC、CrCN、CrN等。
利点:
1. コスト効率が高い生産
2. ワーク・ステーション(ワーク・ステーションの人間工学的の設計、スペースの最小になること、事故の騒音および危険)のHumanization
3. 良質の収穫。
4. 強力なheating-up装置および血しょう源のクリーニングの強い付着;
5. 改善および保守作業のための容易なアクセスを用いるコンパクト デザインおよび。
6. 十分にオートメーション、PLC+Touchスクリーン、1接触制御システム。
7. 最高より少ないパワー消費量との高性能。50%の生産費の救うこと。
技術仕様:
1. 最終的な真空圧力:9.0*10-5 Paよりよい;
3. ポンプ ダウンタイム:自動支払機から1.0×10-3 Pa≤15分(室温、乾燥した、きれいなおよび空の部屋への)の
4. 沈殿源:Gencoaのマグネトロンの放出させる陰極は、アークの陰極、イオン源を操縦した
5. 作動モデル:手動で十分に自動的に/Semi-Auto/
6. 暖房:最高までの室温から。500℃、
9. PECVDおよびPA PVDプロセスのためのイオン源。
真空メッキ機械は下記に記載されている主完了されてシステムを含んでいる:
1. 真空槽
1.1サイズ:内部の直径:1200mm
内部の高さ:1500mm
1.2材料:真空槽SUS304
ドアおよびフランジSUS304
部屋は構造を増強する:塗られた終わりの表面処理のSS41穏やかな鋼鉄。
塗られた終わりの表面処理の部屋のシャーシSS41の穏やかな鋼鉄。
1.3部屋の盾:SUS304
1.4眺めの窓:ドアの2
1.5真空槽のガス抜き弁(を含む消音装置)
1.6ドア:SUS304材料
2. 大体の形になる真空のポンプ施設管理:
オイルの回転式ベーンの真空ポンプ+ポンプを握る
磁気的に懸濁液の分子ポンプ- 2セット
4. 制御および操作システムPLC+接触ScreenOperation電気システム:
製造者:
PLC:三菱+タッチ画面(中国製)
電子部品:シュナイダー、OMRON。
安全保護システム:オペレータおよび装置(水、現在のガス、温度等)を保護する多数の安全保護インターロック
コーティング プロセス システム:プロセス・オートメーション及び制御。
4.1主要な回路:どれもヒューズのブレーカ スイッチ、電磁石スイッチ、シリーズ タイプのC/T
4.2電源:DC/MFの放出させる力+ DCアーク力+バイアス電源
4.3沈殿制御システム
4.4操作システム:タッチ画面+ PLC、調理法制御およびの自動操業停止、自動避難、自動コーティング データ ロギング
4.5測定システム
真空圧力:真空ゲージ:Pirani +ゲージを+フル レンジの真空ゲージ ペンで書く--ヨーロッパのブランド
温度の測定器:熱電対
MFC:マス フローのコントローラー(4つの方法)、
4.6警報システム:圧縮空気圧力、冷却の水流、Mis操作
4.7力の負荷表示器:電圧表示器および負荷現在の表示器
5.沈殿システム
5.1沈殿源:cathodes+放出させるアークの源+イオン源
5.2沈殿材料:銅、アルミニウム、Chrome、銀、金、SS、チタニウム等。
6. サブシステム
6.1空気は弁の制御システムを圧縮した
6.2冷水システム:水流管およびスイッチ弁システム
圧縮空気:5~8kg/cm2
冷水:温度水:20~25℃、200リットル/分、
圧力水:2~3 kg/cm2、
力:3段階380V 50Hz (60Hz)、130kVAの平均出力の消費:60KW
設置区域:(L*W*H) 4400*3200*2950mm
排気:機械ポンプのための出口
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