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精密光学とレーザーシステムのためのUV溶融シリカガラスディスク
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仕様
産地 :
上海,中国
供給能力 :
月に100000個
モデル番号 :
QB01245354
コーティング :
入手可能
OEM :
入手可能
記述



精密光学とレーザーシステムのためのUV溶融シリカガラスディスク


材料

  • 紫外線溶解シリカ: 高純度シリコン二酸化物 (SiO2) で構成され,紫外線 (UV) の伝達に最適化された合成ガラス.

    • 評価: JGS1 (深紫外線透明度,185~2500nm) とJGS2 (220~2500nm) を含む.性能とコストをバランスする.

    • 純度: 低金属性不純物と水酸化物 (OH) の含有量は,UVスペクトルでの最小限の吸収を保証します.

主要な特性

  1. UV透明性:深紫外線から近赤外線 (NIR) への特殊な伝播は,UVレーザーアプリケーションにとって極めて重要です.

  2. 熱安定性: 低熱膨張 (≈0.55 x 10−6/°C) は,高功率レーザー曝露や温度変化による変形に抵抗する.

  3. 化学 耐性: 酸,溶媒,プラズマに耐性があり,厳しい産業環境に最適です.

  4. レーザーダメージの限界: レーザーによる損傷に強い耐性があり,パルスおよび連続波レーザーに適しています.

  5. 表面の質: 表面下欠陥を最小限に抑え, λ/10 の平らさに磨き上げられ,精密なビーム制御を保証する.

  6. 均質性: 歪みのない光学のための均一屈折率 (±5 x 10−6)

機能

  • オプティカルウィンドウ: 繊細な部品を環境要因から保護しながら,紫外線を伝達します.

  • サブストラット: 鏡,フィルター,ビームスプリッタのコーティング (反射,介電) のベースとして使用する.

  • 射線発信: レーザー空洞,コリマター,そしてフォーカスシステムでビームの整合性を維持します.

  • オプティカル・フラット: 干渉計測と校正のための基準面を用意する.

申請

  • レーザーシステム:UVエクシマーレーザー,Nd:YAGシステム,光線誘導と出力窓のためのフェムト秒レーザー.

  • 半導体リトグラフィ: フォトリトグラフィーマスクやステップシステムにおけるUV照明の提供

  • 精密光学: 望遠鏡の鏡,顕微鏡のスライド,干渉計の部品.

  • 医療機器: 紫外線 消毒 装置,レーザー 手術 ツール,診断 画像 装置.

  • 航空宇宙・防衛:UVセンサー,LIDARシステム,高エネルギーレーザー (HEL) のアプリケーション

  • 研究:光譜学,紫外線光学,量子光学実験

名前 ガラスのディスク,ガラスのワッフル
材料 光学ガラス,クワルツガラス,パイレックス,ボロシリケートガラス,浮遊ガラス,ボロフロート
直径の許容度 +0/-0.2 mm
厚さの許容度 +/-0.2mm
加工された 切る,磨く,冷却する,磨く
作業温度 高温ショックに耐える
表面の質 80/50,60/40,40/20
物質 の 質 傷も空気の泡も
トランスミッション 可視光では>92%
シャムファー 0.1-0.3mm × 45度
表面塗装 入手可能
使用 写真,照明システム,産業用エリア


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製品詳細
産地 :
上海,中国
供給能力 :
月に100000個
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入手可能
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Shanghai Longway Special Glass Co., Ltd.

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shanghai, shanghai
ありがとうございました 2008
主な製品 :
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年間総額 :
1000000-5000000
従業員数 :
30~100
認証レベル :
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