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薄膜堆積のための光学平面性クリティカルガラスディスク基板
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仕様
モデル番号 :
YY22353312
支払条件 :
D/P、T/T、ウェスタン・ユニオン
表面 :
光学等級
適用する :
光学とレーザー
OEM :
入手可能
記述



薄膜堆積のための光学平面性クリティカルガラスディスク基板


材料

  • 高純度 ガラス: 通常は溶融したシリカ (JGS1/JGS2),ボロシリカート,またはクォーツから作られ,超低熱膨張と化学惰性のために選択されます.

    • 溶融したシリカ: 特殊な均質性,低OH含有量,熱ショック耐性により好ましい.

    • ボロシリケート: 適度な熱安定性と良い表面磨き能力のあるコスト効率の良い代替品.

  • 表面の質: 精密コーティングの最小偏差を確保するために λ/10 から λ/20 の平らさに設計されています.

主要な特性

  1. 光学平面性:表面平らさ ≤ λ/10 (632.8 nm で),均質な薄膜堆積と波面歪みを最小限に抑えるために重要です.

  2. 熱安定性: 低熱膨張系数 (例えば,溶融したシリカでは0.55 x 10−6/°C) は,CVDやスプッターなどの高温プロセスで変形を防ぐ.

  3. 化学 耐性: 酸,プラズマ,溶媒に対して無活性で,攻撃的な堆積環境で耐久性を保証します.

  4. 表面の均質性:屈折率均一性 (±5 x 10−6) は,コーティングされたフィルムの光学歪みを回避する.

  5. メカニカル 耐久性: 高硬さ (モハス57) 処理や処理中に擦り傷を受けない.

機能

  • 薄膜基板: 超平坦で安定した基底を塗料 (反射,電解,金属) の堆積のために提供します.

  • プロセス互換性: PVD,CVD,ALD,およびスプッター技術と互換性があり,均質なフィルム粘着と厚さを保証します.

  • メトロロジー参照: 精密な平坦性により,干渉計と表面プロファイラーのための校正基準として機能する.

申請

  • 半導体製造: フォトマスク,EUVリトグラフィー鏡,光学MEMS装置

  • 光学産業: コーティングフィルター,ビームスプリッター,ナノメートルの精度を要求するレーザー光学

  • 研究開発ナノテクノロジー フォトニクス 量子コンピューティング

  • 航空宇宙・防衛: 精密センサー,衛星光学,レーザーガイドシステム

  • 医療機器: 画像システム,内視鏡,診断機器のための光学コーティング

名前 ガラスのディスク,ガラスのウェーファー,ガラスの基板,視力ガラスの

オフロート
直径の許容度 +0/-0.2 mm
厚さの許容度 +/-0.2mm
加工された 切る,磨く,磨く
作業温度 高温ショックに耐える
表面の質 80/50,60/40,40/20
物質 の 質 傷も空気の泡も
トランスミッション 可視光では>90%
シャムファー 0.1-0.5 mm × 45 度
表面塗装 入手可能
使用 写真,照明システム,産業用エリア


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Shanghai Longway Special Glass Co., Ltd.

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shanghai, shanghai
ありがとうございました 2008
主な製品 :
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年間総額 :
1000000-5000000
従業員数 :
30~100
認証レベル :
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